'하이 NA 극자외선(EUV) 노광 장비- D램 생산 공정에 투입되면서 2㎚(1㎚=10억분의 1m) 이하 초미세 회로
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'하이 NA 극자외선(EUV) 노광 장비- D램 생산 공정에 투입되면서 2㎚(1㎚=10억분의 1m) 이하 초미세 회로
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